Метод молекулярно-лучевой эпитаксии

Доклад, 27 Декабря 2014, автор: пользователь скрыл имя

Краткое описание


Метод молекулярно-лучевой эпитаксии (molecular-beam epitaxy, MBE) предназначен для выращивания кристаллических структур в сверхвысоком вакууме с помощью пучков атомов или молекул, являющихся компонентами растущего соединения. Таким образом, MBE представляет собой усовершенствование обычного способа напыления металлических пленок испарением в вакууме. Принципы технологии MBE формулировались постепенно.

Прикрепленные файлы: 1 файл

Nanotech 8.docx

— 177.87 Кб (Просмотреть файл, Скачать документ)

Открыть текст работы Метод молекулярно-лучевой эпитаксии